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      超精密光學技術
      超精密光機系統集成與裝調

      超精密光機系統集成與裝調是精密光學系統研制的核心關鍵技術之一。對于IC光刻投影物鏡,光學元件裝配間隔誤差、偏心誤差需控制在±1μm以內。在此基礎上,通過計算機輔助裝調及系統級元件精修,最終達到波像差、畸變等像質指標。

      團隊基于光刻投影物鏡超精密光學系統集成與裝調技術攻關,建立了一整套精密光學系統的裝配、測試、像質補償流程,并能夠通過綜合優化,有效降低光學系統的制造成本。利用已有超精密光學系統裝配技術及研發的高精度裝配設備與工裝,能夠實現亞微米精度的位置公差測試和裝配。

      超精密光學系統像質補償技術方面,針對國內首套NA0.75-ArF光刻投影物鏡研制,依賴于精確的光學系統測量技術體系,充分發揮光學系統的補償手段,在有效控制超高精度光學系統制造難度與成本的基礎上,最終實現了物鏡系統全視場平均波像差優于4nm,全視場平均畸變優于5.7nm的核心指標。

      目前團隊擁有健全的光學系統測試與裝配儀器、裝備,涵蓋傳遞函數測試、應力雙折射測試、激光光譜測試、鏡片厚度測試、鏡片位置測試與裝調、材料均勻性測試、物鏡系統波像差測試。配套滿足超精密裝配需求的無塵室,潔凈度等級最高達到100級(ISO CLASS 5),溫度穩定性最高達到±0.02℃,精密隔振系統能夠將振動水平控制在VC-E水平,能夠全面支撐超精密光學系統的集成、裝調與測試。




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